| 软X射线投影光刻技术及其发展 |
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| 引用本文： | 金春水,曹健林.软X射线投影光刻技术及其发展[J].物理实验,2002,22(5):3-6. |
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| 作者姓名： | 金春水 曹健林 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,长春,130022 |
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| 摘 要： | 软X射线投影光刻的研究近年来取得了突破性进展，所采用的新型光学系统由于无污染激光等离子光源及分辨率大视场投影光刻系统组成，该技术多采用无应力光学装调工艺、深亚纳米级的镜面加工和多层膜制备技术及低缺陷反射式掩摸技术，该技术还采用表面成像光刻胶技术并涉及到精密扫描机构等技术，本文介绍了这一技术的发展历史，关键技术以及研究进展。
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| 关 键 词： | 软X射线 投影光刻 光学系统 技术发展 集成电路 制造技术 |
| 文章编号： | 1005-4642(2002)05-0003-04 |
Soft X-ray projection lithography technology |
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| JIN Chun-shui,CAO Jian-lin.Soft X-ray projection lithography technology[J].Physics Experimentation,2002,22(5):3-6. |
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| Authors: | JIN Chun-shui CAO Jian-lin |
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| Abstract: | Researches on soft X-ray projection lithography (SXPL) technology have made important progress. The system is consisted of debris-free laser produced plasma source, high resolution and large field projection system. Super precision mirror/substrate polishing and coating, low defect reflective masks, surface-imaging resist, and super fine scan stage are employed in this technology. This paper introduces the development history, key technology and development of SXPL technology. |
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| Keywords: | soft X-ray projection lithography optical system |
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