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| 原位钼修饰TiO_2/BiVO_4异质结薄膜的制备及其光电化学性能 | |
| 引用本文： | 牛学恒,白晶,李金花,周保学.原位钼修饰TiO_2/BiVO_4异质结薄膜的制备及其光电化学性能[J].复旦学报(自然科学版),2018(2). |
| 作者姓名： | 牛学恒 白晶 李金花 周保学 |
| 作者单位： | 上海交通大学环境科学与工程学院 |
| 摘 要： | 针对TiO_2可见光响应能力不足、BiVO_4光生电子空穴分离能力弱的问题,制备了一种基于钼原位掺杂BiVO_4修饰TiO_2纳米管的高性能Mo-BiVO_4/TiO_2异质结光阳极.实验结果表明,钼掺杂后异质结电极材料的吸收带边约510nm,光电流密度在1.23Vvs.RHE偏压下达到1.48mA/cm2,与未掺杂钼的TiO_2/BiVO_4光电极相比,Mo-BiVO_4/TiO_2光阳极的光电转化效率提高了近50%,光电流密度提高了近2.5倍,光转化效率在0.95Vvs.RHE偏压下提高了2倍,且电极的稳定性较好. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |