Die Bestimmung von Kupfer- und Nickelspuren in Gallium

Zusammenfassung Nickel- und Kupferkontaminierungen in Gallium im ppm-Bereich und darunter stören empfindlich bei der Verwendung in der Halbleiterphysik. Der Chloridkomplex des Galliums in 6-n HC1 wird von einem stark basischen Anionenaustauscher effektiv zurückgehalten, während Nickel die Säule als Kation durchläuft. In 4-n HC1 werden Kupfer und Nickel vom Gallium abgetrennt und voneinander isoliert. Nickel geht ohne Verzögerung in den Auslauf, während Kupfer infolge der Bildung schwacher Chloridkomplexe nachfolgt. Der Galliumkomplex wird auch in diesem Medium am Harz zurückgehalten. Isoliertes Nickel wird unter Verwendung eines Kationenaustauschers und Rubeanwasserstoffs getüpfelt. Mit dem gleichen Reagens, aber auf Filterpapier tüpfelt man das abgetrennte Kupfer. Die vorgeschlagene Methode erlaubt es, bis zu 0,03 ppm Nickel und 0,5 ppm Kupfer rasch und sicher in Gallium zu bestimmen.

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Assay of copper and nickel traces in gallium

Summary Nickel and copper contaminations in ppm levels and below give rise to critical disturbances when gallium is used in semiconductor physics. The chloride complex of gallium in 6N HCl is effectively retained by a strongly basic anion exchanger, while as a cation nickel passes through the column. Copper and nickel are separated from gallium in 4 N HCl and isolated from each other. Nickel passes into the outflow without delay, whereas copper follows later in consequence of the formation of weak chloride complexes. The gallium complex is also retained on the resin in this medium. Isolated nickel is spotted using a cation exchanger and thiocyanic acid. The separated copper is spotted with the same reagent, but on filter paper. The suggested method permits up to 0.03 ppm nickel and 0.5 ppm copper to be determined quickly and surely in gallium.