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用湿法刻蚀技术制作衍射光学元件
作者姓名:
周礼书 敬守勇 杨李茗 杨春林
摘 要:
研究了氢氟酸(HF)湿法刻蚀石英玻璃的化学机理,探索了针对衍射光学元件制作的刻蚀工艺,得到相关实验规律和工艺参数。最后对实验误差进行定量分析,得到湿法刻蚀的可控精度。
关 键 词:
湿法刻蚀 衍射光学元件 制作工艺 工艺参数 实验误差 化学机理 石英玻璃 氢氟酸 HF
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