| 偏晶向(111)硅片闪耀光栅的设计 |
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| 引用本文： | 鞠挥,张平,王淑荣,吴一辉.偏晶向(111)硅片闪耀光栅的设计[J].微细加工技术,2003(4):18-21,26. |
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| 作者姓名： | 鞠挥 张平 王淑荣 吴一辉 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,长春,130022 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究规划资助项目(973-G1999033107)，中科院长春光机所创新工程资助项目(C02X01Z)，青年基金资助项目(CO1Q07) |
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| 摘 要： | 利用硅单晶的特殊结构可以设计出不同角度的闪耀光栅，再使用MEMS的紫外光刻、各向异性腐蚀等常规工艺就可以完成硅闪耀光栅的制作。设计了一种利用偏转晶向(111)硅片制作小角度闪耀光栅的方法，避免了利用其它晶向的硅片制作闪耀光栅的缺点。利用这种方法制作了线宽为4μm的硅闪耀光栅，使用原子力显微镜(AFM)进行了光栅表面形貌测试，得到平均表面粗糙度为110．94nm，试验结果表明制作的硅光栅样片具有良好光学特性的反射表面和光栅槽形。
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| 关 键 词： | 闪耀光栅 偏晶向硅片 体硅 湿法腐蚀 微制造 |
| 文章编号： | 1003-8213(2003)04-0018-04 |
Design of Blazed Silicon Grating by Deflecting Crystal Orientation (111) Silicon Wafer |
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| JU Hui,ZHANG Ping,WANG Shu-rong,WU Yi-huiFine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences,Changchun ,China.Design of Blazed Silicon Grating by Deflecting Crystal Orientation (111) Silicon Wafer[J].Microfabrication Technology,2003(4):18-21,26. |
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| Authors: | JU Hui ZHANG Ping WANG Shu-rong WU Yi-huiFine Mechanics and Physics Chinese Academy of Sciences Changchun China |
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| Institution: | JU Hui,ZHANG Ping,WANG Shu-rong,WU Yi-huiFine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences,Changchun 130022,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | (111) silicon wafer blazed grating bulk silicon technology microfabrication MEMS wet etching |
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