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| 电子散射效应对电子束光刻的影响 | |
| 引用本文： | 孙毓平. 电子散射效应对电子束光刻的影响[J]. 物理, 1985, 14(12). |
| 作者姓名： | 孙毓平 |
| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所 |
| 摘 要： | 自七十年代中期，第一批计算机控制的亚微米对准精度的扫描电子束光刻机问世以来不到十年，一个引人注目的新技术领域──微细加工技术随之发展起来．人类有可能用这新技术来获得亚微米级（＜１μｍ）、毫微米级（ｎｍ）的尺寸．电于束光刻在微细加工技术中份演着重要角色．超大规模集成电路、高速器件、超导结器件、声表面波换能器、高密度磁泡存贮器、集成光学元件、材料科学以及生物学等领域，都需要加工更小的尺寸．微细加?... |
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