| 制作高密度衍射光栅的光电式刻划控制的研究 |
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| 引用本文： | 时轮,马春翔,胡德金,郝德阜.制作高密度衍射光栅的光电式刻划控制的研究[J].光学技术,2004,30(3):340-342. |
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| 作者姓名： | 时轮 马春翔 胡德金 郝德阜 |
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| 作者单位： | 1. 上海交通大学,制造技术与自动化装备研究开发中心,上海,200030
2. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130022 |
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| 摘 要： | 高精度的光电式刻划控制系统是制作高密度母光栅的关键技术,以光栅干涉仪为控制核心,设计了光电式的光栅刻划控制系统,并对可能产生的加工误差进行了初步的分析;采用该控制系统的光栅刻划实践表明,所设计的光电式刻划控制系统已完全达到了高密度衍射光栅的亚微米栅距分度要求。
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| 关 键 词： | 衍射光栅 光电 刻划 |
| 文章编号： | 1002-1582(2004)03-0340-03 |
| 修稿时间： | 2003年9月5日 |
Study of the photoelectric ruling control on the fabricating of the high density diffraction grating |
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| SHI Lun,MA Chun-xiang,HU De-jin,HAO De-fu.Study of the photoelectric ruling control on the fabricating of the high density diffraction grating[J].Optical Technique,2004,30(3):340-342. |
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| Authors: | SHI Lun MA Chun-xiang HU De-jin HAO De-fu |
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| Institution: | SHI Lun~1,MA Chun-xiang~1,HU De-jin~1,HAO De-fu~2 |
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| Abstract: | The high accurate photoelectric control system is the core technique for the fabrication of high-density master gratings. The design on the photoelectric ruling control system with a grating interferometer is made and the analysis on the fabrication error is basically introduced. The ruling practice using the control system shows that the photoelectric control system meets the sub-micrometer graduation requirement of high-density gratings. |
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| Keywords: | diffraction grating photoelectricity ruling |
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