| 旋转半径对KDP晶体生长过程影响的数值模拟研究 |
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| 引用本文： | 张小莉,程旻,康道远,杨森,刘希夏. 旋转半径对KDP晶体生长过程影响的数值模拟研究[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(10): 2721-2727 |
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| 作者姓名： | 张小莉 程旻 康道远 杨森 刘希夏 |
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| 作者单位： | 重庆大学动力工程学院,低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室,重庆400030 |
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| 基金项目： | 中央高校基本科研业务费(CDJZR13140015) |
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| 摘 要： | 相比传统KDP晶体同心旋转的生长方式,本文利用数值模拟的方法,针对不同旋转半径和不同籽晶摆放方式对KDP晶体生长过程中溶液流动和物质输运的影响进行研究,以寻找提高晶体表面过饱和度及其均匀性的方法.计算结果表明:随着旋转半径从0 cm增大到3 cm,晶面时均过饱和度整体也逐渐增大,柱面平均均方差逐渐减小,锥面平均均方差先增大后减小;当晶体摆放方式采用棱边迎流时,晶体表面时均过饱和度相比柱面迎流略有下降,但其平均均方差最小,有利于减少包裹体的产生.
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| 关 键 词： | KDP晶体 数值模拟 旋转半径 表面过饱和度 均方差, |
Numerical Simulation Research of the Crystal Growth Process of KDP with Different Rotation Radius |
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| ZHANG Xiao-li,CHENG Min,KANG Dao-yuan,YANG Sen,LIU Xi-xia. Numerical Simulation Research of the Crystal Growth Process of KDP with Different Rotation Radius[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2015, 44(10): 2721-2727 |
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| Authors: | ZHANG Xiao-li CHENG Min KANG Dao-yuan YANG Sen LIU Xi-xia |
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