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铋掺杂砷化镓晶体的坩埚下降法生长研究
引用本文:王冰心,徐家跃,金敏,何庆波,房永征. 铋掺杂砷化镓晶体的坩埚下降法生长研究[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(5): 1156-1160
作者姓名:王冰心  徐家跃  金敏  何庆波  房永征
作者单位:上海应用技术学院材料科学与工程学院,上海,201418;昆山鼎晶镓业晶体材料有限公司,苏州,215300
基金项目:上海市科委项目(09530500800)
摘    要:使用<511>取向GaAs籽晶,在直径2英寸的pBN坩埚中生长了2.5;Bi掺杂的GaAs晶体.能量分散谱仪(EDS)和透过光谱均有Bi相关谱峰的存在,说明Bi原子已掺杂到GaAs晶体中.X射线双摇摆曲线测得半高峰宽值为42".与未掺杂GaAs晶体相比,所得晶体的禁带宽度出现红移,从1.43 eV移至近1.39 eV.扫面式电子显微镜(SEM)显示晶体中存在少量富Bi包裹物,晶体质量有待进一步改进.

关 键 词:坩埚下降法  晶体生长  砷化镓晶体  Bi掺杂,

Growth and Characterization of Bi-doped GaAs Crystal by Bridgman Method
WANG Bing-xin,XU Jia-yue,JIN Min,HE Qing-bo,FANG Yong-zheng. Growth and Characterization of Bi-doped GaAs Crystal by Bridgman Method[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2015, 44(5): 1156-1160
Authors:WANG Bing-xin  XU Jia-yue  JIN Min  HE Qing-bo  FANG Yong-zheng
Abstract:
Keywords:
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