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8英寸铌酸锂晶体生长研究
引用本文:孙德辉,韩文斌,李陈哲,彭立果,刘宏.8英寸铌酸锂晶体生长研究[J].人工晶体学报,2024(3):434-440.
作者姓名:孙德辉  韩文斌  李陈哲  彭立果  刘宏
作者单位:1. 济南大学前沿交叉科学研究院;3. 山东大学晶体材料国家重点实验室
基金项目:山东省自然科学基金重大基础研究项目(ZR2021ZD20);;国家自然科学基金(51802113);
摘    要:铌酸锂单晶薄膜(LNOI)在新一代信息技术中关键通信器件领域的作用日益显著,随着铌酸锂单晶薄膜制备技术和光子集成技术的发展,降低芯片成本、增加芯片集成度是光子集成芯片永恒不变的发展方向,因此迫切需求大尺寸铌酸锂晶体。本文讨论了大尺寸坩埚中熔体自然对流随着液面下降的变化规律,研究了8英寸(1英寸=2.54 cm)铌酸锂Z轴、X轴两个提拉方向的生长特点,获得等径尺寸大于φ210 mm×50 mm的8英寸Z轴、X轴铌酸锂晶体。1 mm厚X轴铌酸锂晶圆的透过率显示波长380~3 300 nm光谱的透过率超过了70%,晶片纹影图像显示晶体中存在折射率脉理缺陷。

关 键 词:铌酸锂  8英寸  自然对流  提拉法  折射率脉理
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