8英寸铌酸锂晶体生长研究 |
| |
引用本文: | 孙德辉,韩文斌,李陈哲,彭立果,刘宏.8英寸铌酸锂晶体生长研究[J].人工晶体学报,2024(3):434-440. |
| |
作者姓名: | 孙德辉 韩文斌 李陈哲 彭立果 刘宏 |
| |
作者单位: | 1. 济南大学前沿交叉科学研究院;3. 山东大学晶体材料国家重点实验室 |
| |
基金项目: | 山东省自然科学基金重大基础研究项目(ZR2021ZD20);;国家自然科学基金(51802113); |
| |
摘 要: | 铌酸锂单晶薄膜(LNOI)在新一代信息技术中关键通信器件领域的作用日益显著,随着铌酸锂单晶薄膜制备技术和光子集成技术的发展,降低芯片成本、增加芯片集成度是光子集成芯片永恒不变的发展方向,因此迫切需求大尺寸铌酸锂晶体。本文讨论了大尺寸坩埚中熔体自然对流随着液面下降的变化规律,研究了8英寸(1英寸=2.54 cm)铌酸锂Z轴、X轴两个提拉方向的生长特点,获得等径尺寸大于φ210 mm×50 mm的8英寸Z轴、X轴铌酸锂晶体。1 mm厚X轴铌酸锂晶圆的透过率显示波长380~3 300 nm光谱的透过率超过了70%,晶片纹影图像显示晶体中存在折射率脉理缺陷。
|
关 键 词: | 铌酸锂 8英寸 自然对流 提拉法 折射率脉理 |
|
|