| 硬盘微晶玻璃基板化学机械抛光研究 |
| |
| 引用本文： | 王金普,白林山,储向峰.硬盘微晶玻璃基板化学机械抛光研究[J].人工晶体学报,2015,44(1):216-220. |
| |
| 作者姓名： | 王金普 白林山 储向峰 |
| |
| 作者单位： | 安徽工业大学化学与化工学院,马鞍山,243002 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(50975002);教育部高校留学回国人员科研项目;安徽工业大学创新团队项目(TD201204) |
| |
| 摘 要： | 利用自制的抛光液对硬盘微晶玻璃基板进行化学机械抛光.研究了抛光压力、SiO2浓度、pH和氧化剂过硫酸铵浓度等因素对材料去除速率MRR和表面粗糙度Ra的影响,系统分析了微晶玻璃抛光工艺过程中的影响因素,优化抛光工艺条件,利用原子力显微镜检测抛光后微晶玻璃的表面粗糙度.结果表明:当抛光盘转速为100 r/min、抛光液流量为25 mL/min、抛光压力为9.4 kPa、SiO2浓度为8wt;、pH=8、过硫酸铵浓度为2wt;时,能够得到较高的去除速率(MRR=86.2 nm/min)和较低表面粗糙度(Ra=0.1 nm).
|
| 关 键 词： | 微晶玻璃 化学机械抛光 表面粗糙度 材料去除率 |
Investigation on Chemical Mechanical Polish of Glass Ceramics Substrate of Hard Disk |
| |
| WANG Jin-pu,BAI Lin-shan,CHU Xiang-feng.Investigation on Chemical Mechanical Polish of Glass Ceramics Substrate of Hard Disk[J].Journal of Synthetic Crystals,2015,44(1):216-220. |
| |
| Authors: | WANG Jin-pu BAI Lin-shan CHU Xiang-feng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
|
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《人工晶体学报》下载免费的PDF全文 |
|
