| KDP晶体离子束抛光温度场模拟与工艺参数优化 |
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| 引用本文： | 邓鸿飞,袁征,解旭辉,周林,胡皓.KDP晶体离子束抛光温度场模拟与工艺参数优化[J].人工晶体学报,2015,44(10):2708-2713. |
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| 作者姓名： | 邓鸿飞 袁征 解旭辉 周林 胡皓 |
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| 作者单位： | 国防科学技术大学机电工程与自动化学院,长沙,410073;重庆通信学院,重庆,400035 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51405503) |
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| 摘 要： | 为解决离子束加工热效应这一棘手问题,必须了解离子束加工过程中光学元件的温度场分布,以期优化工艺参数来降低离子束加工过程中光学元件的温度.本文基于ANSYS参数化设计语言(APDL),建立离子束作用下温度场模型,模拟离子束加工KDP晶体过程,并对不同工艺参数条件下工件的温度场进行仿真.分析了工艺参数对KDP晶体温升的影响规律,并通过正交分析方法优化了工艺参数.优化结果表明:从影响工件温度变化程度的角度,离子入射角度θ＞入射离子能量ε＞峰值束流密度J＞扫描行间距系数μ＞束流分布参数σ;从降低工件温升角度,应选取较小的入射离子能量和峰值束流密度以及较大的离子束径、扫描行间距系数和入射角度,减小离子束加工对工件性能的影响,同时加工时间增加不明显.
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| 关 键 词： | 离子束加工(IBF) 温度场 KDP晶体 参数优化 |
Simulation Research on Temperature Field of KDP Crystal and Technical Parameters Optimization in Ion Beam Figuring |
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| DENG Hong-fei,YUAN Zheng,XIE Xu-hui,ZHOU Lin,HU Hao.Simulation Research on Temperature Field of KDP Crystal and Technical Parameters Optimization in Ion Beam Figuring[J].Journal of Synthetic Crystals,2015,44(10):2708-2713. |
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| Authors: | DENG Hong-fei YUAN Zheng XIE Xu-hui ZHOU Lin HU Hao |
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