| 氢钝化对低温沉积nc-SiOx/SiO2多层薄膜发光特性影响机制研究 |
| |
| 引用本文： | 郑燕,李云,王新占,刘建苹,张瑜,于威,赖伟东,任丽坤. 氢钝化对低温沉积nc-SiOx/SiO2多层薄膜发光特性影响机制研究[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(12): 3559-3564 |
| |
| 作者姓名： | 郑燕 李云 王新占 刘建苹 张瑜 于威 赖伟东 任丽坤 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(60878040);河北省自然科学基金(F2013201250);河北省科技厅项目(12963930D) |
| |
| 摘 要： | 采用等离子体增强化学气相沉积技术实现了nc-SiOx/SiO2多层结构薄膜在220℃的低温沉积,并对其450℃N2+ H2形成气体退火前后的微结构及其发光特性进行了研究.结果表明,直接沉积的纳米硅多层薄膜未观察到较明显的室温发光,而形成气体退火后样品出现峰值位于780 nm附近较强的光致发光,归因于活性氢能有效钝化纳米硅表面悬键,提高了材料的发光强度.结合瞬态发光谱分析,采用量子限制-发光中心模型可以合理解释纳米硅多层结构的发光特性.
|
| 关 键 词： | nc-SiOx/SiO2 低温沉积 光致发光 氢钝化, |
Study on the Effect of Hydrogen Passivation on Photoluminescence Properties of Low-temperature Depositied nc-SiOx/SiO2 Multilayers |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
|
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《人工晶体学报》下载免费的PDF全文 |
|
