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| Co处理的γ-Fe2O3薄膜的界面研究 | |
| 作者姓名： | 丁耀国 林彰达 齐上雪 王荫君 千静芳 |
| 作者单位： | (1)电子工业部杭州磁记录设备开发中心; (2)中国科学院物理研究所 |
| 摘 要： | 本文中对CoO与Fe2O3的界面进行了研究,结果表明,简单的CoO-γ-Fe2O3界面对于磁性能基本无影响。分析表明,“复杂的扩散界面”不大可能象以往认为的那样是矫顽力增长的主要原因。矫顽力的增长可能是由掺Co造成的一种体效应而不是界面效应。关键词： |
| 收稿时间： | 1986-09-17 |
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