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二氧化硅与液体介质的亲和性表征
引用本文:杜翠鸣,邢燕侠,柴颂刚,郝良鹏,陈文欣.二氧化硅与液体介质的亲和性表征[J].无机化学学报,2013,29(18).
作者姓名:杜翠鸣  邢燕侠  柴颂刚  郝良鹏  陈文欣
作者单位:广东生益科技股份有限公司, 国家电子电路基材工程技术研究中心, 东莞 523808,广东生益科技股份有限公司, 国家电子电路基材工程技术研究中心, 东莞 523808,广东生益科技股份有限公司, 国家电子电路基材工程技术研究中心, 东莞 523808,广东生益科技股份有限公司, 国家电子电路基材工程技术研究中心, 东莞 523808,广东生益科技股份有限公司, 国家电子电路基材工程技术研究中心, 东莞 523808
基金项目:国家自然科学基金(No.)资助项目。
摘    要:利用动态核磁脉冲(Dynamic NMR)技术对高浓度的二氧化硅浆料的亲和性进行研究,并建立表征束缚层厚度与亲和性的定量模型。结果表明,在纯丁酮溶剂中,二氧化硅的含量越高,分散时间越长,填料表面束缚层厚度越大;而在树脂溶液体系中,在30%二氧化硅含量附近,填料表面束缚层厚度最大。当处理剂用量约为0.5%(ω/ω)时,颗粒表面与介质的吸附作用最强。使用不同处理剂制备的二氧化硅浆料,其表面吸附效应也有所不同,并且当浆料静置16 h后,其厚度层发生变化,在丁酮体系中,束缚层厚度部分增加,而甲苯体系中,束缚层厚度减小。

关 键 词:动态核磁脉冲  二氧化硅浆料  界面特性  弛豫时间

Compatibility Characterization of Silica with Liquid Medium
DU Cui-Ming,XING Yan-Xi,CHAI Song-Gang,HAO Liang-Peng and CHEN Wen-Xin.Compatibility Characterization of Silica with Liquid Medium[J].Chinese Journal of Inorganic Chemistry,2013,29(18).
Authors:DU Cui-Ming  XING Yan-Xi  CHAI Song-Gang  HAO Liang-Peng and CHEN Wen-Xin
Institution:Shengyi Technology Co., Ltd, National Engineering Research Center of Electronic Circuits Base Materials, Dongguan, Guangdong 523808, China,Shengyi Technology Co., Ltd, National Engineering Research Center of Electronic Circuits Base Materials, Dongguan, Guangdong 523808, China,Shengyi Technology Co., Ltd, National Engineering Research Center of Electronic Circuits Base Materials, Dongguan, Guangdong 523808, China,Shengyi Technology Co., Ltd, National Engineering Research Center of Electronic Circuits Base Materials, Dongguan, Guangdong 523808, China and Shengyi Technology Co., Ltd, National Engineering Research Center of Electronic Circuits Base Materials, Dongguan, Guangdong 523808, China
Abstract:
Keywords:dynamic NMR  silica slurry  interfacial properties  relaxation time
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