| 高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析 |
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| 引用本文： | 荣百炼,胡赞东,丛树仁,韩福忠,姬荣斌.高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析[J].红外技术,2010,32(4). |
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| 作者姓名： | 荣百炼 胡赞东 丛树仁 韩福忠 姬荣斌 |
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| 作者单位： | 昆明物理研究所,云南,昆明,650223 |
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| 摘 要： | 采用辉光放电质谱(GD-MS)对碲、镉原材料中锂、硼、钠、铝、硅、铁、铜、锌、镓、砷,银、金,铅、铀等62个杂质元素进行了测试,并与激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS)所测的结果进行比较,对结果差异的潜在因素、个别元素含量异常偏大的原因进行了系统分析,着重论述VG9000辉光放电质谱仪的特点及痕量杂质分析优势.
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| 关 键 词： | 辉光放电质谱(GD-MS) 激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS) 痕量杂质测定 高纯碲和镉 |
The Analysis of High Purity Tellurium and Cadmium Using Glow Discharge Mass Spectrometry and Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry |
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| RONG Bai-lian,HU Zan-dong,CONG Shu-ren,HAN Fu-zhong,JI Rong-bin.The Analysis of High Purity Tellurium and Cadmium Using Glow Discharge Mass Spectrometry and Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry[J].Infrared Technology,2010,32(4). |
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| Authors: | RONG Bai-lian HU Zan-dong CONG Shu-ren HAN Fu-zhong JI Rong-bin |
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