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| 邻菲啰啉-H_2O_2-Sn(Ⅳ)化学发光体系的研究 | |
| 引用本文： | 李焕,于振安.邻菲啰啉-H_2O_2-Sn(Ⅳ)化学发光体系的研究[J].高等学校化学学报,1993(8). |
| 作者姓名： | 李焕 于振安 |
| 作者单位： | 东北工学院化学系，东北工学院化学系 沈阳 110006，沈阳 110006 |
| 摘 要： | 测定痕量锡可采用分光光度法、荧光分析法等。目前,高灵敏度的化学发光分析法已用于多种金属离子的分析,但是,锡的化学发光分析尚未见报道。本文采用的反相流动注射化学发光分析(rFIA-CL)法是以试样作载流,定量注入试剂到试液流中的一种分析新技术。rFIA法能在一定程度上克服基线漂移,提高分析灵敏度,减少试剂消耗,且重现性好。我们观察到邻菲啰啉(phen)在碱性介质中被H_2O_2氧化时有较强的化学发光,痕量Sn(Ⅳ)对 |
| 关 键 词： | 流动注射分析 化学发光 邻菲啰啉 锡 |
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