表面增强红外光谱在研究电子电镀添加剂界面吸附的机遇 |
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引用本文: | 毛子杰,吴依彩,蒋昆,蔡文斌.表面增强红外光谱在研究电子电镀添加剂界面吸附的机遇[J].中国科学:化学,2023(10):1812-1821. |
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作者姓名: | 毛子杰 吴依彩 蒋昆 蔡文斌 |
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作者单位: | 1. 复旦大学化学系,上海市分子催化与功能材料重点实验室;2. 上海交通大学机械与动力工程学院 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(编号:22241201,22272033)资助项目; |
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摘 要: | 电子电镀是芯片金属互连的关键技术,对相关添加剂分子的界面吸附结构和行为进行可靠表征,是理解填充过程机制、设计新型添加剂的先决条件.衰减全反射–表面增强红外光谱(ATR–SEIRAS)具有强大的分子结构识别能力和对各类金属电极应用的普适性,为研究电子电镀金属–溶液界面的添加剂吸附结构及竞合作用提供了新机遇.基于本课题组的相关工作基础,本文针对电子电镀添加剂基础研究的需求,概述了表面增强红外光谱的基本原理,介绍了该方法在宽频与流动检测方面的新进展以及相关应用研究案例,归纳了该方法目前的不足并展望了未来的研究方向.
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关 键 词: | 表面增强红外光谱 电子电镀 添加剂 超级填充 |
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