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晶圆边缘缺陷的系统探测与分类
作者单位:
Semiconductor International高级编辑
摘 要:
边缘缺陷率已成为器件制造的重要问题,然而相当多的器件制造商认为.目前对晶圆边缘进行检测的能力还远远不够。虽然有些解决方案的表现还不错.但是它们似乎主要针对的是晶圆制造商,重点关注的是晶圆上的碎片和裂缝等物理损伤。
关 键 词:
晶圆
边缘缺陷
分类
探测
系统
制造商
物理损伤
缺陷率
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