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晶圆边缘缺陷的系统探测与分类
作者单位:Semiconductor International高级编辑
摘    要:边缘缺陷率已成为器件制造的重要问题,然而相当多的器件制造商认为.目前对晶圆边缘进行检测的能力还远远不够。虽然有些解决方案的表现还不错.但是它们似乎主要针对的是晶圆制造商,重点关注的是晶圆上的碎片和裂缝等物理损伤。

关 键 词:晶圆  边缘缺陷  分类  探测  系统  制造商  物理损伤  缺陷率
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