| 分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜折射率及厚度的测试 |
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| 引用本文： | 延凤平,郑凯,王琳,李一凡,龚桃荣,简水生,尾形健一,小池一步,佐佐诚彦,井上正崇,矢野满明. 分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜折射率及厚度的测试[J]. 物理学报, 2007, 56(7) |
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| 作者姓名： | 延凤平 郑凯 王琳 李一凡 龚桃荣 简水生 尾形健一 小池一步 佐佐诚彦 井上正崇 矢野满明 |
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| 摘 要： | 利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.
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| 关 键 词： | ZnMgO薄膜 偏振光椭圆率测量仪 折射率 分子束外延(MBE) |
Measurement of thickness and refractive index of Zn1-xMgxO film grown on sapphire substrate by molecular beam epitaxy |
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| Yan Feng-Ping,Zheng Kai,Wang Lin,Li Yi-Fan,Gong Tao-Rong,Jian Shui-Sheng,K.Ogata,K.Koike,S.Sasa,M.Inoue,M.Yano. Measurement of thickness and refractive index of Zn1-xMgxO film grown on sapphire substrate by molecular beam epitaxy[J]. Acta Physica Sinica, 2007, 56(7) |
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| Authors: | Yan Feng-Ping Zheng Kai Wang Lin Li Yi-Fan Gong Tao-Rong Jian Shui-Sheng K.Ogata K.Koike S.Sasa M.Inoue M.Yano |
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