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| 灰阶掩模实现光学邻近校正及计算模拟研究 | |
| 引用本文： | 杜惊雷,黄奇忠,姚军,粟敬钦,郭永康,崔铮,沈锋.灰阶掩模实现光学邻近校正及计算模拟研究[J].光学学报,1999,19(5):98-702. |
| 作者姓名： | 杜惊雷 黄奇忠 姚军 粟敬钦 郭永康 崔铮 沈锋 |
| 作者单位： | 1. 四川大学物理系,成都,610064 2. 英国卢瑟福国家实验室 3. 中国科学院光电技术研究所,成都,610209 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金,教育部博士点基金,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助课题 |
| 摘 要： | 从光学邻近效应产生机理出发，提出用带灰阶衬线的灰阶掩模实现光学邻近效应精细校正的新方法，并指出掩模图形振幅信息的优化，即合理分布掩模图形的空间频谱，可以改善空间像的光强分布并获得高质量的光刻图样。计算表明，校正后的成像图样与理想像的偏差小于０．９％。 |
| 关 键 词： | 光学邻近效应校正 灰阶掩模 灰阶衬线 |
| 收稿时间： | 1998/2/9 |
OPC with Grey Level Mask and Its Computer Simulation Study |
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| Du Jinglei,Huang Qizhong,Yao Jun,Su Jingqin,Guo Yongkang,Cui Zheng,Shen Feng.OPC with Grey Level Mask and Its Computer Simulation Study[J].Acta Optica Sinica,1999,19(5):98-702. | |
| Authors: | Du Jinglei Huang Qizhong Yao Jun Su Jingqin Guo Yongkang Cui Zheng Shen Feng |
| Abstract: | Based on analysis of physical mechanism on optical proximity effect, a new method for fine correction of optical proximity effect is presented. The optimum of amplitude distribution on mask can improve distribution of spatial frequency spectrum. So printed image of high fidelity can be obtained. The simulation shows that the deviation between the contour of image after OPC and the contour of ideal image is less than 0.9%. |
| Keywords: | optical proximity correction(OPC) grey level mask grey level serif |
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