结构参数F与部分气态化合物标准生成焓的相关性研究 |
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引用本文: | 杨锋,罗明道.结构参数F与部分气态化合物标准生成焓的相关性研究[J].化学物理学报,1999,12(6):747-752. |
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作者姓名: | 杨锋 罗明道 |
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作者单位: | [1]重庆西南师范大学化学化工学院 [2]武汉大学化学系 |
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摘 要: | 用三个分别代表分子中原子联结情况、顶点原子结构特点和相邻原子成键情况的矩阵相乘得到一个无量纲数值的方法定义并计算了拓扑指数F。用F分别相关了16个硅卤化物(不含氢)、32个硅卤化物9含氢)、16个钛卤化物、32个硅卤化物和钛卤化物(不含氢)、48个硅卤化物(含氢)和钛卤化物、44个卤代甲烷的标准生成焓,其相关系数均在0.97以上。F能较好地处理CH4、SiH4等Randic-Kier指数不能处理的
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关 键 词: | 结构参数F 标准生成焓 拓扑指数 分子结构 |
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