| 软X射线显微术Si_3N_4薄膜窗口的研制 |
| |
| 引用本文： | 张延惠,宋一中,谢行恕. 软X射线显微术Si_3N_4薄膜窗口的研制[J]. 分子科学学报, 1996, 0(4) |
| |
| 作者姓名： | 张延惠 宋一中 谢行恕 |
| |
| 作者单位： | 山东师范大学物理系，中国科学技术大学基础物理中心 |
| |
| 摘 要： | 介绍了在软Ｘ－射线显微术研究领域中有重要应用的Ｓｉ_３Ｎ_４薄膜窗口的实验室制作方法，并形成一套独特制备工艺，Ｓｉ_３Ｎ_４薄膜窗口的研制成功推动了我国软Ｘ射线显微术研究的发展。
|
| 关 键 词： | 软X射线显微术；Si_3N_4薄膜窗口；LPCVD；等离子体刻蚀 |
The Fabrication of Si_3N_4 Windows Applied to Soft X-ray Microscopy |
| |
| Zhang Yanhui,Shong Yizhong,Xie Xingshu. The Fabrication of Si_3N_4 Windows Applied to Soft X-ray Microscopy[J]. Journal of Molecular Science, 1996, 0(4) |
| |
| Authors: | Zhang Yanhui Shong Yizhong Xie Xingshu |
| |
| Abstract: | The paper introduces the experimental fabrication of the Si3N4 window applied to soft X-ray microscopy and creats an unique procedure,it promotes the soft X - ray microscopy research of China. |
| |
| Keywords: | soft X-ray micrascopy Si_3N_4 window LPCVD plasma etching |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
