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杂志ISSN号
抗蚀剂的干法显影技术研究
作者姓名:
管会
作者单位:
电子工业部第四十七研究所
摘 要:
在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影(等离子体显影)已展示实现的可能性,一方面开发了能够干显影的抗蚀剂,另一方面还发展了能对现有抗蚀剂作干显影的新工艺。本文简述了至今为止所发表的抗蚀剂的干显影技术和技术动向,也介绍了我们所做的有关工作。
关 键 词:
等离子刻蚀 抗蚀剂 干显影 工艺
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