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| 双重图形推动浸没式光刻继续前进 | |
| 引用本文： | Aaron Hand.双重图形推动浸没式光刻继续前进[J].集成电路应用,2007(4):26-29. |
| 作者姓名： | Aaron Hand |
| 作者单位： | Semiconductor International |
| 摘 要： | 随着高折射率浸没式光刻看起来并不比其他光刻方案更有希望,业界现在开始热烈地讨论双重图形,想以此作为拓展水浸式光学光刻强有力的方法 |
| 关 键 词： | 光学光刻 浸没式 图形 高折射率 水浸式 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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