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| 上海:上海集成电路研发中心与Synopsys共建先进工艺技术联合实验室 | |
| 摘 要： | 双方将结合已有的技术优势和产业资源,从为中国市场提供所需且对先进节点工艺具有重要影响的光学临近效应修正(OPC)的仿真模型及验证程式出发,共同研究和开发与高阶工艺相关的各项技术。 |
| 关 键 词： | 临近效应 仿真模型 产业资源 技术优势 工艺技术 市场提供 重要影响 集成电路 节点 研发中心 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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