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杂志ISSN号
第五、六族元素的有机化合物在有机合成中应用的研究——ⅩⅤ.含氟膦叶立德的质谱研究
作者姓名:
傅桂香
徐永珍
彭荣坤
沈延昌
忻元康
黄耀曾
作者单位:
中国科学院上海有机化学研究所
摘 要:
本文报道11个含氟膦叶立德的电子轰击(EI)质谱和化学电离(CI)正、负离子质谱。前者的断裂机理和一般膦叶立德相似,形成一系列骨架重排离子,而后者只出现(C
6
H
5
)
2
离子。在1~11的CI正离子质谱中,基峰均为[M+H]
+
,在7~11中还观察到氧重排离子
m
/β279。CI负离子质谱出现稳定的[M-·C
6
H
5
]
-
离子,化合物7~11的正、负离子质谱都出现特征的炔离子和炔基正离子。
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