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| (p-CH3C6H4SO3)3Nd+DMF体系中电沉积钕-铁族合金膜 | |
| 引用本文： | 刘鹏.(p-CH3C6H4SO3)3Nd+DMF体系中电沉积钕-铁族合金膜[J].电化学,1999,5(1):14-17. |
| 作者姓名： | 刘鹏 |
| 作者单位： | School of Chem. and Chem. Engin.，Zhongshan University，Guangzhou 510275 |
| 摘 要： | 本世纪３０年代Ａｕｄｒｅｉｔｈ等人基于分离稀土元素的目的，在某些有机溶剂电解液中用汞阴极电沉积了个别的稀土汞齐［１］．１９５４年Ｍｏｅｌｅｒ等在乙二胺中电沉积了Ｙ、Ｌａ和Ｎｄ（稀土含量只有５０％左右）［２］．随着电子和信息技术的发展，稀土合金功能薄膜... |
| 关 键 词： | 钕 铁 合金膜 稀土 电沉积 对甲苯磺酸 |
(p-CH3C6H4SO3)3Nd+DMF体系中电沉积钕-铁族合金膜 |
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| Liu Peng Tong Yexiang Yang Qiqin,Yang Yansheng.(p-CH3C6H4SO3)3Nd+DMF体系中电沉积钕-铁族合金膜[J].Electrochemistry,1999,5(1):14-17. | |
| Authors: | Liu Peng Tong Yexiang Yang Qiqin Yang Yansheng |
| Institution: | Liu Peng Tong Yexiang Yang Qiqin * Yang Yansheng |
| Abstract: | |
| Keywords: | Neodymium p _toluenesulfonate Alloy films of neodymium_iron group Electrodeposition Organic electrolytes |
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