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| 基于磁控溅射和ICP刻蚀的RB-SiC表面平坦化工艺 | |
| 引用本文： | 赵杨勇,刘卫国,惠迎雪.基于磁控溅射和ICP刻蚀的RB-SiC表面平坦化工艺[J].光子学报,2018(3). |
| 作者姓名： | 赵杨勇 刘卫国 惠迎雪 |
| 作者单位： | 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室; |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射技术在RB-SiC表面沉积Si平坦化层,通过正交试验研究了射频功率、Ar流量和工作气压三个因素对薄膜表面质量和形貌的影响规律,以获取最佳的薄膜沉积参数.射频功率120 W、工作气压1.2Pa和Ar流量40sccm条件下获得了最佳质量的平坦化样品,利用电感耦合等离子体对平坦化膜层进行刻蚀抛光,通过Lambda950分光光度计测试不同工艺阶段样品表面的反射率.结果表明,相比于未处理的RB-SiC初始样品,经过平坦化和等离子体刻蚀的样品表面粗糙度标准差值由1.819nm减小至0.919nm,样品表面反射率相应地提高了2%.由此说明射频磁控溅射平坦化沉积与电感耦合等离子体刻蚀的组合工艺可实现RB-SiC表面的高质量加工. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |