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| 基于标准CMOS工艺的非接触式保护环单光子雪崩二极管 | |
| 引用本文： | 吴佳骏,谢生,毛陆虹,朱帅宇.基于标准CMOS工艺的非接触式保护环单光子雪崩二极管[J].光子学报,2018(1). |
| 作者姓名： | 吴佳骏 谢生 毛陆虹 朱帅宇 |
| 作者单位： | 天津大学微电子学院天津市成像与感知微电子技术重点实验室;天津大学电气自动化与信息工程学院; |
| 摘 要： | 基于深亚微米CMOS工艺,设计了一种采用非接触式P阱保护环来抑制边缘击穿的单光子雪崩二极管结构.采用器件仿真软件Silvaco Atlas分析了保护环间距对器件的电场分布和雪崩触发概率等特性的影响,结合物理模型计算了所设计器件的暗计数概率和光子探测效率.仿真和计算结果表明,保护环间距d=0.6μm时器件性能最优,此时击穿电压为13.5V,暗电流为10-11 A.在过偏压为2.5V时,门控模式下的暗计数概率仅为0.38%,器件在400~700nm之间具有良好的光学响应,500nm时的峰值探测效率可达39%. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |