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组装EUVL实验设备研究的最新成果
引用本文:
金春五.组装EUVL实验设备研究的最新成果[J].光机电信息,1999,16(7):13-18.
作者姓名:
金春五
摘 要:
1 前言先进微电子器件加工中,投影光刻不断地获得越来越小的极限尺寸。为了克服光衍射的限制,已经设计出具有较大数值孔径和较短工作波长的先进光刻机。到2007年工作波长将缩短到13nm左右的极紫外(EUV)波长。
关 键 词:
EUVL
投影光刻
实验设备
微电子器件
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