离子束技术对氧化铪薄膜性能的影响 |
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引用本文: | 刘丰, 张伟丽, 晋云霞. 离子束技术对氧化铪薄膜性能的影响[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(06). |
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作者姓名: | 刘丰 张伟丽 晋云霞 |
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作者单位: | 1.中国科学院 上海光学精密机械研究所, 中国科学院 强激光材料科学与技术重点实验室, 上海 201 800;;;2.中国科学院 研究生部, 北京 1 00039 |
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摘 要: | 在基底清洗、薄膜沉积和薄膜后处理三个阶段均采用离子束技术,制备了氧化铪薄膜,并对薄膜的光学性能、表面特性和激光损伤阈值特性进行测试和研究。结果表明,利用离子束技术清洗基底可以增强表面吸附;离子束辅助沉积在合适离子束能量下可以得到高堆积密度、高损伤阈值的薄膜;离子束后处理氧化铪薄膜可以降低表面粗糙度,改善抗激光损伤阈值。说明在三个薄膜制备阶段同时采用合适的离子束参数可以制备出结构致密、阈值高、表面粗糙度好的氧化铪薄膜。
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关 键 词: | 离子束技术 氧化铪薄膜 激光损伤阈值 光学性能 后处理 |
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