| 用金属-配位体缓冲溶液流动注射络合滴定镉和镓的研究 |
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| 引用本文： | 鲍伦军,蔡纯,陈焕光. 用金属-配位体缓冲溶液流动注射络合滴定镉和镓的研究[J]. 光谱实验室, 1999, 16(5): 488-493 |
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| 作者姓名： | 鲍伦军 蔡纯 陈焕光 |
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| 作者单位： | 1. 广东进出口商品检验局食品检测中心,广州市珠江新城花城大道66号,510623
2. 中山大学化学系,广州市,510275 |
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| 摘 要： | 本文详细地论证了流动注射滴定的理论，推导了使用金属－配位体缓站溶液流动注射络合滴定的理论计算公式，并用Ｃｄ－ＮＴＡ和Ｇａ－ＨＥＤＴＡ分别加ＴＡＲ和邻苯二酚紫作载流，滴定了金属离子镉和镓。流动注射络合定滴定镉和镓的实验进一步验证了公式的正确性和适用性。通过大量的理论和应用实验的数据优化了实验条件，同时也进一步修正了理论公式，使之与实际的络合反应更加符合。滴定镉和镓的最低检出浓度分别为５．００×１０＾
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| 关 键 词： | 金属-配位体缓冲溶液 流动注射 络合滴定 镉 镓 |
| 修稿时间： | 1999-06-28 |
Study of Flow Injection Complexometric Titration Cadmium and Gallium with Metal-Ligand Buffer Solution |
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| BAO Lun-Jun,CAI Chun,CHEN Huan-Guang. Study of Flow Injection Complexometric Titration Cadmium and Gallium with Metal-Ligand Buffer Solution[J]. Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory, 1999, 16(5): 488-493 |
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| Authors: | BAO Lun-Jun CAI Chun CHEN Huan-Guang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Metal|Ligand Buffer Solution Flow Injection Complexometric Titration Cadmium Gallium. |
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