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| 离子束工艺 | |
| 作者姓名： | 蒲生健次 难波进 王文澄 |
| 摘 要： | 由于半导体器件工艺的干法化,各种离子束工艺越来越显得重要了。本文就其中的离子束曝光、离子束蚀刻以及聚焦离子束技术的最近进展情况进行论述。一、前言随着半导体器件的高密度化、高集成化,要使工艺技术满足:1)、超微细加工,2)、低温工艺,3)便于控制,4)净化工艺等的要求问题,越来越显得重要了。采 |
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