| 压强对GaSb/GaAs量子点形貌各向异性的影响 |
| |
| 作者姓名： | 徐德前 徐佳新 庄仕伟 李国兴 张宝林 |
| |
| 作者单位： | 集成光电子学国家重点实验室 吉林大学电子科学与工程学院,吉林 长春,130012;集成光电子学国家重点实验室 吉林大学电子科学与工程学院,吉林 长春,130012;集成光电子学国家重点实验室 吉林大学电子科学与工程学院,吉林 长春,130012;集成光电子学国家重点实验室 吉林大学电子科学与工程学院,吉林 长春,130012;集成光电子学国家重点实验室 吉林大学电子科学与工程学院,吉林 长春,130012 |
| |
| 摘 要： | 采用低压金属有机物化学气相沉积(LP-MOCVD)技术在Ga As(001)衬底上制备Ga Sb量子点,研究了反应室压强对改善Ga Sb/Ga As量子点形貌各向异性的影响。通过Sb表面处理方法,在Ga As衬底上形成低表面能的Sb-Sb浮层,实现以界面失配(IMF)生长模式对Ga Sb量子点诱导生长。用原子力显微镜(AFM)对各样品的量子点形貌进行了表征,结果表明Ga Sb量子点形貌各向异性明显且沿[110]方向拉长。在压强条件为10 k Pa时,IMF生长模式导致不对称岛的长宽比大于3,由于低能量(111)侧面的存在,Ga Sb量子点优先沿[110]方向生长而不是与之垂直的[110]方向。压强降低至4 k Pa时量子点密度增大为8. 3×109cm-2,量子点形貌转变为对称的半球形且长宽比约为1。低的压强降低了吸附原子的扩散激活能从而增大了扩散长度,可以有效改善Ga Sb量子点的各向异性。
|
| 关 键 词： | GaSb/GaAs量子点 各向异性 IMF生长模式 MOCVD |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
