电化学掺铜(Ⅱ)类普鲁士蓝膜修饰电极的制备及其对亚硝酸根的测定 |
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引用本文: | 刘赵荣,王玉春,弓巧娟.电化学掺铜(Ⅱ)类普鲁士蓝膜修饰电极的制备及其对亚硝酸根的测定[J].分析化学,2010,38(7). |
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作者姓名: | 刘赵荣 王玉春 弓巧娟 |
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作者单位: | 运城学院应用化学系,运城,044000 |
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摘 要: | 研究在普鲁士蓝(PB)修饰膜中,利用电化学方法掺杂Cu2+制备的掺Cu2+类普鲁士蓝(Cu-PB)修饰膜.通过循环伏安和交流阻抗实验,考察了制备的Cu-PB修饰膜的电化学性质和对NO-2的响应特性,并与PB修饰膜进行了比较.研究表明,掺Cu2+后不仅改变了PB膜的内部结构,其电化学性能也发生了明显变化,PB修饰膜对NO-2无电催化作用,而Cu-PB修饰膜对亚硝酸根具有明显的电催化作用.在pH=5.85的PBS缓冲溶液中,NO-2的浓度在1.0×10-2~5.0×10-5 mol/L范围内与还原峰电流呈良好的线性关系(r=0 9983); 检出限(3S/N)为1.0 μmol/L.本法用于实际样品的测定,回收率为97.5%~104%,结果令人满意.
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关 键 词: | 类普鲁士蓝膜 修饰电极 亚硝酸根 循环伏安法 |
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