| V+注入锐钛矿TiO2第一性原理研究 |
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| 引用本文： | 侯兴刚,刘安东. V+注入锐钛矿TiO2第一性原理研究[J]. 物理学报, 2007, 56(8) |
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| 作者姓名： | 侯兴刚 刘安东 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 用金属离子注入方法在锐钛矿TiO2薄膜中掺杂了V+,采用全势线性缀加平面波方法计算了锐钛矿TiO2及V+掺杂TiO2超原胞的电子结构,通过紫外-可见吸收光谱测试方法检测了注入不同剂量的V+对TiO2薄膜吸收光谱的影响.理论计算和实验结果表明,锐钛矿TiO2薄膜注入V+后,带隙宽度变小,吸收光谱发生红移,并且TiO2的带隙宽度随着注入V+剂量的增加而减小.
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| 关 键 词： | V 注入 全势线性缀加平面波方法 能带结构 |
First principles calculations on anatase implanted by V+ |
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| Hou Xing-Gang,Liu An-Dong. First principles calculations on anatase implanted by V+[J]. Acta Physica Sinica, 2007, 56(8) |
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| Authors: | Hou Xing-Gang Liu An-Dong |
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| Keywords: | TiO2 |
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