基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法 |
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引用本文: | 刘鑫,张满,庞辉,史立芳,曹阿秀,邓启凌. 基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法[J]. 光子学报, 2016, 0(6): 102-106. DOI: 10.3788/gzxb20164506.0605001 |
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作者姓名: | 刘鑫 张满 庞辉 史立芳 曹阿秀 邓启凌 |
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作者单位: | 中国科学院光电技术研究所,成都,610209 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(No.61505204)资助 The National Natural Science Foundation of China (No.61505204) |
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摘 要: | 针对大角度(大于50°)衍射光学元件低成本、批量化制备的需求,提出一种基于纳米压印技术的制备方法.首先利用光学曝光技术或电子束直写技术制备衍射元件的原始母板,然后将原始母板的结构通过纳米压印过程复制到压印胶上,完成衍射光学元件的制备.由于纳米压印母板可以多次重复使用,降低了制作成本,提高了效率.用该方法制备了不同特征尺寸(最小为250nm,衍射全角为70°)的衍射光学元件,具有良好的衍射效果,实现了对高深宽比浮雕结构的高保真复制.该技术可实现从微米到纳米跨尺度兼容的衍射光学元件的高保真、低成本、批量化制备.
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关 键 词: | 衍射光学元件 低成本 批量化 纳米压印 跨尺度兼容 |
Fabrication of Large-angle Diffractive Optical Element Based on Nanoimprint Lithography |
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Abstract: | |
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Keywords: | Diffractive Optical elements Low cost Mass production Nanoimprint lithography Nanometer scale |
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