| 铌掺杂钛酸铋钠钾厚膜的制备及其铁电性能 |
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| 引用本文： | 龚跃球,陈泓怡.铌掺杂钛酸铋钠钾厚膜的制备及其铁电性能[J].人工晶体学报,2018,47(9):1818-1822. |
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| 作者姓名： | 龚跃球 陈泓怡 |
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| 作者单位： | 湘潭大学材料科学与工程学院,湘潭,411105 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(11772286) |
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| 摘 要： | 根据粉末溶胶法的原理,用旋转涂覆工艺在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备不同Nb含量的(Na0.85K0.15)0.5 Bi0.5Ti(1-x)NbxO3(NKBTNx,x=0.01,0.03,0.05,0.07)厚膜,并研究了厚膜样品的微观结构、介电特性、漏导特性及铁电特性.XRD和SEM的分析结果表明:A位掺杂K、B位掺杂Nb并没有改变Na0.5 Bi0.5 TiO3的晶体结构;Nb的最佳掺入量为0.05.NKBTN5铁电厚膜具有最好的结晶度,尺寸均匀,厚膜表面光滑致密,但有少量微孔.介电频谱测试表明,NKBTNx厚膜的居里温度随着Nb含量的增加而逐渐增加,厚膜的弛豫特性明显增强.此外,NKBTN5铁电厚膜的室温介电常数最大,介电损耗最低,漏电流密度最小,剩余极化值最大(2Pr=48.1μC/cm2),矫顽场最小(77.8 kV/cm).
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| 关 键 词： | (Na0.85K0.15)0.5Bi0.5Ti(1-x)NbxO3 铁电厚膜 粉末溶胶法 电学性能 |
Preparation and Ferroelectric Properties of NKBTNx Thick Films Doping with Nb |
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| GONG Yue-qiu,CHEN Hong-yi.Preparation and Ferroelectric Properties of NKBTNx Thick Films Doping with Nb[J].Journal of Synthetic Crystals,2018,47(9):1818-1822. |
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| Authors: | GONG Yue-qiu CHEN Hong-yi |
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