| 不同温度下同质外延生长单晶金刚石的应力分析 |
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| 引用本文： | 宋修曦,马志斌,耿传文,丁康俊,任昱霖. 不同温度下同质外延生长单晶金刚石的应力分析[J]. 人工晶体学报, 2018, 47(5): 942-947 |
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| 作者姓名： | 宋修曦 马志斌 耿传文 丁康俊 任昱霖 |
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| 作者单位： | 武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430073 |
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| 基金项目： | 中国电子科技集团公司第四十六研究所创新基金(CJ20150701) |
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| 摘 要： | 本文利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)对不同温度区间下同质外延单晶金刚石的应力作出了相关研究,讨论了不同温度区间下单晶金刚石内部产生应力的原因.结果表明在低温区间(700～ 720℃)与高温区间(870 ～890℃)下生长金刚石内部均产生裂纹,总应力以本征应力为主,且以拉应力形式呈现.低温区间(700～720℃)下由于内部石墨杂质的生成使之产生过大的拉应力,而高温区间(870 ～890℃)下则是由于单晶金刚石生长面多晶点的出现导致拉应力集中从而产生裂纹.在合适的温度区间(770 ～830℃)下能同质外延生长出无裂纹高质量的单晶金刚石,总应力较小且热应力为主,以压应力形式呈现.
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| 关 键 词： | 同质外延 单晶金刚石 应力 化学气相沉积, |
Stress Analysis of Homoepitaxial Growth of Single Crystal Diamond at Different Temperatures |
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| SONG Xiu-xi,MA Zhi-bin,GENG Chuan-wen,DING Kang-jun,REN Yu-lin. Stress Analysis of Homoepitaxial Growth of Single Crystal Diamond at Different Temperatures[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2018, 47(5): 942-947 |
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| Authors: | SONG Xiu-xi MA Zhi-bin GENG Chuan-wen DING Kang-jun REN Yu-lin |
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