首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

ZnO纳米线场效应管的制备及I-V特性研究
引用本文:张威,李梦轲,魏强,曹璐,杨志,乔双双.ZnO纳米线场效应管的制备及I-V特性研究[J].物理学报,2008,57(9).
作者姓名:张威  李梦轲  魏强  曹璐  杨志  乔双双
基金项目:辽宁省教育厅创新团队项目,辽宁省自然科学基金
摘    要:采用静电探针和原子力探针技术,将化学气相沉积工艺制备的,长度为30-200μm,直径80-750 nm的单根半导体ZnO纳米线搭接在Au,Zn,Al不同功函的金属隔离沟道两端,构建出了最基本的ZnO纳米线绝缘栅场效应管.研究了沟道类型、纳米线直径、退火温度和外加栅压对ZnO纳米线场效应管I-V特性的影响.利用半导体与金属材料的肖特基接触、欧姆接触的产生机理及电子输运理论,对结果进行了分析和讨论.

关 键 词:ZnO纳米线  场效应管  I-V特性

Fabrication and I-V Characteristics of ZnO nanowire-based field effect transistors
Zhang Wei,Li Meng-Ke,Wei Qiang,Cao Lu,Yang zhi,Qiao Shuang-Shuang.Fabrication and I-V Characteristics of ZnO nanowire-based field effect transistors[J].Acta Physica Sinica,2008,57(9).
Authors:Zhang Wei  Li Meng-Ke  Wei Qiang  Cao Lu  Yang zhi  Qiao Shuang-Shuang
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《物理学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《物理学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号