| 制备条件对二氧化钛薄膜性能的影响(英文) |
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| 引用本文： | 武正簧. 制备条件对二氧化钛薄膜性能的影响(英文)[J]. 天然气化学杂志, 2001, 10(3): 231-236 |
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| 作者姓名： | 武正簧 |
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| 摘 要： | 用低压化学气相沉积法制备ＴｉＯ２薄膜。研究表明，水的分压、沉积温度、基片材料均对沉积速率有影响。在硅片上镀膜，沉积温度相同而退火温度不同，则薄膜结构亦不同。当退火温度高于８５℃时，薄膜为纯金红石薄膜。
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| 关 键 词： | 低压化学气相沉积 二氧化钛 薄膜 |
EFFECT OF PREPARATION CONDITIONS ON THE PROPERTIES OF TiO2 THIN FILMS |
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| Zhenghuang Wu. EFFECT OF PREPARATION CONDITIONS ON THE PROPERTIES OF TiO2 THIN FILMS[J]. Journal of Natural Gas Chemistry, 2001, 10(3): 231-236 |
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| Authors: | Zhenghuang Wu |
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| Affiliation: | College of Chemical Engineering & Technology Taiyuan University of Technology Taiyuan, Shanxi 030024 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | LPCVD TiO2 thin film |
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