| 叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析 |
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| 作者姓名： | 朱江平 胡松 于军胜 |
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| 作者单位： | 朱江平:中国科学院光电技术研究所, 四川 成都 610209电子科技大学光电信息学院, 四川 成都 610054中国科学院研究生院, 北京 100049
胡松:中国科学院光电技术研究所, 四川 成都 610209
于军胜:电子科技大学光电信息学院, 四川 成都 610054
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（60976077,61076099）资助课题。 |
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| 摘 要： | 光刻对准中,一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位置关系。在实际的应用中,叠栅条纹的方向不仅与对准标记的几何位置有关,而且还与CCD的位置有关。为了将叠栅条纹的光刻对准方法推向实际应用,从矩形光栅到叠栅条纹,分析了一般光栅的相位分布规律。根据叠栅条纹相位特性分析了掩模、基片和CCD的几何位置对对准精度的影响;建立了实际对准偏差与理论值的数学关系模型。研究表明,没有角位移的情况下,当位移值小于0.4pixel时,理论上最大对准误差低于0.002pixel。
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| 关 键 词： | 测量 光刻对准 角位移 叠栅条纹 相位分析 |
| 收稿时间： | 2012-03-05 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
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