表面处理对AlGaN欧姆接触的影响及机理 |
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引用本文: | 王磊,王嘉星,汪莱,郝智彪,罗毅. 表面处理对AlGaN欧姆接触的影响及机理[J]. 力学与实践, 2011, 32(4) |
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作者姓名: | 王磊 王嘉星 汪莱 郝智彪 罗毅 |
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作者单位: | 清华大学电子工程系,清华信息科学与技术国家实验室(筹),北京100084 |
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摘 要: | 研究了溶液表面处理对AlGaN欧姆接触的影响及机理。用氟硝酸(HNO3+HF)、稀盐酸(HCl)和硫代乙酰胺(CS3CSNH2)溶液处理AlGaN表面后,Ti/Al/Ti/Au电极的比接触电阻率有显著的降低。样品表面Ga3d与O1s的X射线光电子能谱(XPS)测试结果显示:氧元素含量明显降低,表明这三种溶液可以有效地去除AlGaN表面氧化层,其中CS3CSNH2效果最佳;Ga3d峰位在表面处理后发生蓝移现象,相当于AlGaN表面处的费米能级向导带一侧移动,使电子在隧穿过程中的有效势垒高度降低。以上两个因素均对优化AlGaN/GaN欧姆接触有十分重要的意义。
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关 键 词: | AlGaN/GaN异质结 表面处理 欧姆接触 XPS能谱 |
Influence and Mechanism of Surface Treatment on Ohmic Contacts to AlGaN Surface |
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Abstract: | |
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Keywords: | AlGaN/GaN heterostructure surface treatment ohmic contacts XPS spectra |
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