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| 光致抗蚀剂电沉积技术 | |
| 引用本文： | 蔡积庆.光致抗蚀剂电沉积技术[J].电子工艺技术,1993(6):37-39. |
| 作者姓名： | 蔡积庆 |
| 摘 要： | 对制造细线图形印制板使用的新的光致抗蚀剂电沉积技术的原理、电极反应、工艺过程及其使用装置进行了论述,可适用于大量生产5线/2.54mm的细线印制板。 |
| 关 键 词： | 光致抗蚀剂 电沉积 印刷电路板 |
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