| α-C:H膜表面形貌及光学性能的测试分析 |
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| 引用本文： | 刘兴华,吴卫东,何智兵,袁前飞,王红斌,蔡从中.α-C:H膜表面形貌及光学性能的测试分析[J].强激光与粒子束,2007,19(11):1853-1857. |
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| 作者姓名： | 刘兴华 吴卫东 何智兵 袁前飞 王红斌 蔡从中 |
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| 作者单位： | 重庆大学,数理学院,重庆,400044;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;重庆大学,数理学院,重庆,400044 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 以H2和反式-2-丁烯（T2B）为工作气体，利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-C:H薄膜。采用原子力显微镜、扫描电镜测试了α-C:H薄膜的表面形貌，分析了实验参数对其形貌的影响。研究表明：固定压强(15 Pa)，当T2B/H2流量比为4时，薄膜均方根粗糙度可达0.97 nm。保持T2B/H2流量比固定，增加工作气压，薄膜均方根粗糙度减小，表面更平整、致密。利用傅里叶变换红外光谱仪对薄膜价键结构进行分析，结果表明：α-C:H薄膜中主要存在sp3C—H键，氢含量较高；T2B/H2流量比越低，薄膜中含有更多的C=C键。应用UV-VIS光谱仪，获得了波长在200～1 100 nm范围内薄膜的光吸收特性，α-C:H薄膜透过率可达98%，计算得到的折射率在1.16～1.40。随工作气压的增加，α-C:H薄膜中sp3杂化键增多，透过率、折射率增大。
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| 关 键 词： | α-C:H薄膜 表面粗糙度 折射率 透过率 杂化键 |
| 文章编号： | 1001-4322（2007）11-1853-05 |
| 收稿时间： | 2007-06-19 |
| 修稿时间： | 2007-09-28 |
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