| 用于近场高速纳米光刻的飞行等离子体透镜 |
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| 引用本文： | 翁占坤.用于近场高速纳米光刻的飞行等离子体透镜[J].光机电信息,2009,26(3):13-17. |
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| 作者姓名： | 翁占坤 |
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| 摘 要： | 纳米尺度器件的商业化，要求开发高生产能力的纳米制备技术，该技术应满足经常对设计的器件进行改进的需要。电子束刻蚀技术和扫描探针刻蚀技术等无掩模纳米光刻技术给予了人们期望，但是，这些技术的低生产能力使其在大规模应用上受到了限制。本文报道了一种新颖低廉、生产高效的无掩模纳米光刻途径，该技术使用一个在组成图案的表面上飞行的等离子体透镜阵列，聚焦短波长表面等离子体〈100nm的光斑。然而,这些纳米尺度的光斑仅仅在近场形成，很难在表面上高速地对阵列进行扫描。为了克服这一难题．设计了自适应间隙的空气轴承装置，飞行阵列恰好距圆盘20nm，旋转速度为4～12m／s，实验显示的图案线宽为80nm。该廉价的纳米制备方案有望获得比其它无掩模技术高出2-5个数量级的产量。
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| 关 键 词： | 纳米光刻技术 表面等离子体 透镜阵列 飞行 近场 制备技术 生产能力 纳米尺度 |
Flying Plasmonic Lens in the Near Field for High-speed Nanolithography |
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