表面微构造的硅材料--一种新型的光电功能材料 |
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引用本文: | 赵明,苏卫锋,赵利.表面微构造的硅材料--一种新型的光电功能材料[J].物理,2003,32(7):455-457. |
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作者姓名: | 赵明 苏卫锋 赵利 |
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作者单位: | 复旦大学物理系,应用表面物理国家重点实验室,上海,200433 |
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基金项目: | 国家自然科学基金 (批准号 :60 0 760 2 5 ),上海市科技发展基金(批准号 :0 1JC14 0 10 )资助项目 |
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摘 要: | 在SF6气体氛围内用飞秒激光照射硅表面,可在硅表面产生准规则排列的微米量级尖峰结构,形成“黑硅”新材料.初步研究表明,这种“黑硅”新材料对波长为250-2500nm的光波有大于90%的吸收,同时它还具有相当好的场致发射特性.由于具有这些奇特的光电性质,这种表面微构造的硅材料在光电探测器、太阳能电池、平板显示器等器件制造领域有着重要的潜在应用价值.
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关 键 词: | 表面微构造 硅材料 光电功能材料 飞秒激光 场致发射特性 光电性质 |
修稿时间: | 2002年10月14 |
Microstructured silicon--a new type of opto-electronic material |
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Abstract: | Arrays of sharp spikes have been formed on the surface of silicon by cumulative femtosecond laser pulse irradiation in an SF 6 atmosphere. The absorbance of light by silicon with a microstructured surface is approximately 90% throughout the region from the ultraviolet (250nm) to the near infrared (2500nm). The sharp spikes formed on the surface using femtosecond laser-chemical etching are also good field-emitters. With its amazing optoelectronic properties, surface microstructured silicon shows promising potential applications in the manufacture of solar cells, optoelectronic detectors, flat displays and so forth. |
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Keywords: | femtosecond laser surface microstructuring "black silicon |
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