| 热处理WO3电变色膜稳定性研究 |
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| 引用本文： | 吴正华,丘思畴.热处理WO3电变色膜稳定性研究[J].光电子技术,1996,16(2):125-130. |
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| 作者姓名： | 吴正华 丘思畴 |
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| 作者单位： | 华中理工大学固体电子学系!武汉430074 |
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| 摘 要： | 采用电子束蒸发淀积ＷＯ３薄膜。根据已有的ＷＯ３薄膜脱水过程结论而选择适当温度对薄膜进行退火处理。在大量含水的和不含水的两类Ｌｉ＾＋电解质中进行比较性着色和消色循环实验，表明在２９０℃以下热退火处理能明显增加ＷＯ３薄膜在含水 电解质中的循环寿命。
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| 关 键 词： | 电致变色 热退火处理 稳定性 三氧化钨薄膜 |
Study on Stability of the Annealed WO_3 Electrochromic Thin Films |
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| Wu Zhenghua,Qiu Sichou,Huang Hanyao,He Huahui.Study on Stability of the Annealed WO_3 Electrochromic Thin Films[J].Optoelectronic Technology,1996,16(2):125-130. |
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| Authors: | Wu Zhenghua Qiu Sichou Huang Hanyao He Huahui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | WO_3 thin film electrochromism annealing treatment stability |
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