| 疏水性有序介孔氧化硅薄膜的制备 |
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| 引用本文： | 彭迟香,吴国友,余煜玺,程璇.疏水性有序介孔氧化硅薄膜的制备[J].化学学报,2011,69(6):659-665. |
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| 作者姓名： | 彭迟香 吴国友 余煜玺 程璇 |
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| 作者单位： | (1厦门大学材料学院材料科学与工程系 厦门 361005)
(2特种先进材料福建省重点实验室 厦门 361005) |
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| 基金项目： | 福建省特种先进材料重点实验室基金，福建省自然科学基金 |
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| 摘 要： | 采用溶胶−凝胶技术并结合蒸发诱导自组装工艺, 以三嵌段共聚物EO20PO70EO20 (P123)为模板剂, 使用浸渍提拉法制备了有序介孔氧化硅薄膜, 并使用不同的表面修饰剂对薄膜进行表面处理, 制备了疏水性有序介孔氧化硅薄膜. 利用FT-IR、小角XRD、HRTEM分别表征薄膜的化学物种和孔结构, 探讨了热处理温度和老化时间对薄膜介孔结构的影响, 通过接触角测试研究薄膜的疏水性能, 考察了修饰剂种类、修饰浓度和修饰时间对薄膜疏水性的影响, 结果表明所制备的薄膜为高度有序的介孔氧化硅薄膜, 孔径大小约为8 nm|表面修饰对薄膜的有序性有一定影响, 经三甲基氯硅烷(TMCS)和g-氨丙基三乙氧基硅烷(KH-550)修饰后的薄膜具有很好的疏水性能, 接触角分别为112°和96°|修饰后薄膜的水汽稳定性良好, 仍能保持有序介孔结构, 孔径达7.5 nm, 接触角达93°.
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| 关 键 词： | 有序介孔 氧化硅薄膜 表面修饰 |
Synthesis of Hydrophobic Ordered Mesoporous Silica Films |
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| Peng Chixiang,Wu Guoyou,Yu Yuxi,Cheng Xuan.Synthesis of Hydrophobic Ordered Mesoporous Silica Films[J].Acta Chimica Sinica,2011,69(6):659-665. |
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| Authors: | Peng Chixiang Wu Guoyou Yu Yuxi Cheng Xuan |
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| Institution: | (1 Department of Materials Science and Engineering, College of Materials, Xiamen University, Xiamen 361005) (2 Fujian Key Laboratory of Advanced Materials, Xiamen 361005) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ordered mesoporous silica films surface modification |
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